系统介绍  

本系统采用波长为248nm的准分子激光器作为紫外激光光源，通过掩膜法来刻写各种光纤布拉格光栅（FBG）。

系统工作原理

将图形掩膜板置于要刻写的裸光纤上，相位掩膜板具有抑制零级，增强一级衍射的功能。短脉冲准分子激光器产生248nm激光束通过光路中一系列的透镜、棱镜和可调光阑等元件后，光束截面被改变成所需要的形状，然后照射到掩模板，经过掩膜相位调制后衍射到光纤上形成干涉条纹，光纤的折射率随光强的空间分布发生相应的变化，从而写入周期为掩膜周期一半的布拉格光栅。采用不同的掩模板，即可制作不同参数的光纤布喇格光栅（FBG）和长周期光纤光栅（LPG）。有些时候柱透镜前还需要加扩束器。对于需要做切趾处理的光栅，在激光器出口处需要加正反向切趾掩膜板。

光纤及掩模板被放置在多轴位移台上，可精确调整两者的相对位置。在刻写过程中，光纤接激光光源，并通过光谱仪检测光纤光栅区域反射回来的激光波长及透过率，以控制刻写质量。光纤中的折射率改变量与许多参数有关，如照射波长、光纤类型、掺杂水平等。如果不进行其它处理，直接用紫外光照射光纤，折射率增加仅为（10的负4次方） 数量级便已经饱和，因此需要对光纤进行高温载氢扩散处理，以提高其光敏性。

系统主要应用

用于刻写各种参数的光纤布拉格光栅（FBG）和长周期光纤光栅（LPG），所刻写的FPG和LPG可广泛应用于传感、光通讯以及光纤激光器等研究和生产领域。